成都辰显光电有限公司招聘:SEMJava电子工程师 | 好工作上汇博0130

薄膜工艺资深研究员(J10011)

2万-2.5万元/月

岗位职责：

职责描述：职位说明：玻璃(TFT基)Micro-LED显示行业，研发岗位，阵列技术开发，薄膜工艺资深研究员核心职责描述：1、工艺开发与优化主导TFT背板阵列薄膜(CVD、PVD)工艺开发，制定工艺窗口标准，优化薄膜均匀性、电阻率、应力、折射率、电学特性、附着力、台阶覆盖性等核心参数；针对产品需求，设计并执行严谨的DOE实验，分析实验数据，建立并验证工艺模型。2、异常分析与解决独立诊断并解决薄膜工艺中的突发异常，主导Cause分析并推动闭环；监控薄膜工艺稳定性，建立产品管控体系，降低工艺波动对良率的影响。3、新技术开发3.1、主导新工艺、新技术开发及导入3.2、新材料评估及导入3.3、新设备评估、搬入、调试、验收4、跨部门协同4.1、与光刻、刻蚀、整合工程团队紧密协作，解决跨领域工艺异常问题4.2、主导中心及部门重大专项开发任职要求：1、学历与经验：本科及以上学历，材料科学/物理/化学/微电子相关专业，8年以上CVD工艺实战经验2、行业背景：拥有FPD面板行业(LCD/AMOLED/Micro-LED)中至少一种阵列薄膜(CVD)工艺经验，熟悉行业设备(如AKT/ULVACCVD机台)。3、技术能力：精通薄膜工艺原理，能从气体动力学、表面反应机理、热力学、等离子体物理等底层原理出发，解释工艺现象(如台阶覆盖率、薄膜应力、均匀性偏差)，而非依赖经验公式。熟悉腔体参数调控(功率/气压/气体比例)能独立设计DOE并分析数据，使用SEM/AFM/XPS等工具表征薄膜结果4、核心素质：逻辑清晰，具备系统性故障树分析能力，将材料科学(薄膜相变、结晶性)、化学(反应路径、副产物)、设备工程(真空系统设计、射频耦合效率)等知识串联，系统性分析问题；抗压性强，可随时响应产线重大异常。行业要求：全部行业

干法刻蚀工艺资深研究员(J10136)

1.8万-2万元/月

岗位职责：

核心职责描述：1. 工艺开发与优化o 主导TFT背板阵列干法刻蚀工艺开发，制定工艺窗口标准，优化刻蚀速率、均匀性、选择比等核心参数；o 针对需求差异，设计差异化刻蚀方案。2. 异常分析与解决o 独立诊断并解决干法刻蚀工艺中的突发异常（如CD偏差、残留物、侧壁形貌异常、颗粒污染等），主导Cause分析并推动闭环；o 监控刻蚀工艺稳定性，建立产品管控体系，降低工艺波动对良率的影响。3. 新技术开发o 主导新工艺、新技术开发及导入；o 新材料评估及导入；o 新设备评估、搬入、调试、验收。4. 跨部门协同o 与光刻、薄膜、整合工程团队紧密协作，解决跨领域工艺异常问题；o 主导中心及部门重大专项开发。任职要求• 学历与经验：本科及以上学历，材料科学/物理/化学/微电子相关专业，6年以上干法刻蚀工艺实战经验• 行业背景：拥有FPD面板行业(LCD/AMOLED/Micro-LED)中至少一种Array干法刻蚀工艺经验，熟悉行业设备（如AppliedMaterials/Lam/TEL刻蚀机台）。• 技术能力：精通干法刻蚀原理（物理溅射/化学反应平衡）、腔体参数调控（功率/气压/气体比例）能独立设计DOE并分析数据，使用SEM/AFM/XPS等工具表征刻蚀结果；• 核心素质：逻辑清晰，具备系统性故障树分析能力；抗压性强，可随时响应产线重大异常。行业要求：全部行业

图形化设备高级工程师(J10141)

1.5万-1.6万元/月

岗位职责：

职责描述：1.负责光刻（涂布显影机和曝光机）设备的故障处理,可对设备进行改造来提升性能并可对控制程序进行优化；2.负责制定并实施光刻（涂布显影机和曝光机）设备保养计划；3.负责光刻（涂布显影机和曝光机）设备相关材料、备品备件的购买和管理；4.负责编写光刻（涂布显影机和曝光机）相关文件及专利提案；5.负责产线设备相关改造、备件国产化等项目；6.负责部门内部分软件编程（PLC，C语言，VB等），可负责或参与设备自主研发项目；或者有PLC项目编程经验；7.协助处理组内(蒸镀、退火炉、清洗、湿刻与剥离设备）其他设备的日常事务；8.完成上级分派的其他任务。任职要求：1、本科以上学历，3年以上平板或半导体行业光刻设备相关工作经验，有涂布显影机设备经验者优先考虑；电子信息工程、自动化控制、机械设计等相关专业；具备较丰富的同行业相关设备维护保养、改造、国产化经验；2.了解TFT-LTPS或半导体制程工艺相关基础知识；3.具备使用PLC编程语言，同时具有CAD或Solidwork制图软件设计能力；4.有一定的英语（四级）基础；5.具有良好工作责任心和团队协作精神；具有一定的创新意识和能力；能够承受一定的工作压力。行业要求：全部行业